汎銓 v. 光焱:專利侵權,不是這樣判斷的......

原文對雙方產品與專利主張的比較圖
原文對雙方產品與專利主張的比較圖。

https://wantrich.chinatimes.com/news/20260330900358-420101

如果你的法律顧問同意這樣分析專利侵權,只能說......快逃......

產品比產品,張飛打岳飛。

「依據本公司對專利範圍之主張,只要相關設備中具備此一裝置組合(如附圖紅框所示),即已落入專利保護範圍,並不因是否搭配其他硬體、軟體或技術世代差異而有所影響。」

附上泛銓專利的請求項 1:

一種光損偵測裝置,包含: 一第一導光線材,具有一第一端與一第二端,其中該第一導光線材之該第一端連接一光產生器; 一第二導光線材,具有一第三端與一第四端; 一光偵測器,連接該第二導光線材之該第四端; 至少一個角度調整基座,其上設有該第一導光線材之該第二端與該第二導光線材之該第三端,其中該至少一個角度調整基座用以分別調整該第一導光線材之該第二端與該第二導光線材之該第三端朝向一半導體導光晶片; 以及 一第一發射顯微鏡(Emission Microscopy),其影像擷取面朝向該半導體導光晶片,在該光產生器產生光束時,該光束透過該第一導光線材射向該半導體導光晶片,該半導體導光晶片引導該光束射向該第二導光線材,該光偵測器透過該第二導光線材接收該光束,以擷取其能量,且該第一發射顯微鏡擷取該光束從該半導體導光晶片散逸之漏光位置; 其中該第一發射顯微鏡包含影像感測器及其連接之金相顯微鏡(Metallographic microscope)。

分析專利侵權,請用專利比對產品,不是產品比對產品。

在這種時候,我支持公司老闆找 AI 當律師或法律顧問......

這件爭議的專利修正與技術限制,可對照〈汎銓 v. 光焱:專利戰分析〉中的申請歷程分析。